| 发明名称 |
Verfahren zum Erfassen und Kompensieren von Lageverschiebungen bei photolithographischen Maskeneinheiten |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10319370(B4) |
申请公布日期 |
2007.09.13 |
| 申请号 |
DE20031019370 |
申请日期 |
2003.04.29 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHNEIDER, JENS;LUTZ, TAREK |
| 分类号 |
G03F1/00;H01J37/304;H01J37/317 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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