发明名称 一种闭合的超导环状多层膜及其制备方法和用途
摘要 本发明涉及一种闭合的超导环状多层膜,其特征在于:所述的超导多层膜的横截面呈闭合的椭圆环或矩形环;椭圆内环的短轴为10~100000nm,短轴与长轴的比值为1∶1~5,椭圆外环的短轴为20~200000nm;矩形内环的宽度为10~100000nm,矩形外环的宽度为20~200000nm,矩形内环的宽度与长度的比值为1∶1~5。按照势垒层数的不同分类,该闭合的超导环状多层膜包括单势垒型和双势垒型,其可以通过微加工方法来制备。本发明的闭合超导环状多层膜在保持超导多层膜原有特征和性能的情况下,还具有较小的结电容和功耗等优点,能够满足大规模产品化的要求,能够广泛应用于以超导环状多层膜为核心的各种器件。
申请公布号 CN101034729A 申请公布日期 2007.09.12
申请号 CN200610056830.1 申请日期 2006.03.07
申请人 中国科学院物理研究所 发明人 温振超;刘东屏;韩宇男;马明;覃启航;韩秀峰
分类号 H01L39/08(2006.01);H01L39/22(2006.01);H01L39/24(2006.01) 主分类号 H01L39/08(2006.01)
代理机构 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人 高存秀
主权项 1、一种闭合的超导环状多层膜,包括常规的超导多层膜的各层,其特征在于:所述的超导多层膜的横截面呈闭合的椭圆环或者矩形环,其中椭圆内环的短轴为10~100000nm,短轴与长轴的比值为1∶1~5,椭圆外环的短轴为20~200000nm;矩形内环的宽度为10~100000nm,矩形外环的宽度为20~200000nm,矩形内环的宽度与长度的比值为1∶1~5。
地址 100080北京市海淀区中关村南三街8号