| 主权项 |
1.一种用于包含限定电弧腔的电弧腔外壳之间接 加热阴极离子源的阴极组件,其包含: 一阴极次组件,其包含阴极及固定地安装于其上之 支撑杆;及 一用于放射电子之灯丝,其系放置于该电弧腔之外 部且非常靠近该阴极次组件之支撑杆;及 一用于将该阴极与电弧腔外壳电性及热性隔绝之 阴极绝缘体,其系环绕着该阴极次组件之阴极而放 置。 2.如申请专利范围第1项之阴极组件,其更包含一放 置于非常靠近该阴极之支撑杆附近并与在该电弧 腔内电浆隔绝的灯丝。 3.如申请专利范围第1项之阴极组件,其更包含一放 置于非常靠近该阴极之支撑杆附近并与在该电弧 腔内电浆隔绝的灯丝,其中该灯丝系由导电材料所 制成并包含内侧直径大于或等于该支撑杆之直径 的弧形环。 4.如申请专利范围第1项之阴极组件,其更包含一放 置于非常靠近该阴极之支撑杆附近并与在该电弧 腔内电浆隔绝的灯丝,其中,该灯丝系由导电材料 所制成并包含内侧直径大于或等于该支撑杆之直 径的弧形环,且其中该灯丝之横截面系沿着该灯丝 之长度方向变动并在沿着该弧形环时最小。 5.如申请专利范围第1项之阴极组件,其中该阴极绝 缘体系包含直径大于或等于该阴极之直径的开口 。 6.如申请专利范围第5项之阴极组件,其中系在该阴 极绝缘体以及该阴极之间提供真空间隔以限制热 传导。 7.如申请专利范围第5项之阴极组件,其中该阴极绝 缘体系具有侧壁之一般管状且包含凸缘,其系用于 阻挡在该电弧腔内之电浆以保护该阴极绝缘体之 侧壁。 8.如申请专利范围第7项之阴极组件,其中,该凸缘 在背对该电浆的凸缘之侧面上系设有凹槽,以用于 增加该阴极及该电弧腔外壳之间的路径长度。 9.如申请专利范围第1项之阴极组件,其中该支撑杆 系附着于背对该电弧腔之阴极表面上。 10.如申请专利范围第1项之阴极组件,其中该阴极 系碟形之形状。 11.如申请专利范围第1项之阴极组件,其中该支撑 杆系固定地附着于沿着该阴极轴的该阴极之中心 或附近。 12.如申请专利范围第1项之阴极组件,其中该支撑 杆系具有圆柱形之形状,且该阴极之直径系大于该 支撑杆之直径。 13.如申请专利范围第1项之阴极组件,其中该阴极 之直径系至少大于该支撑杆之直径的四倍。 14.如申请专利范围第1项之阴极组件,其更包含用 于支承该支撑杆之弹簧装载夹具。 15.如申请专利范围第1项之阴极组件,其中,该支撑 杆机械性地支撑该阴极,并传导电能至该阴极。 图式简单说明: 图1系根据本发明实施例之间接加热阴极离子源的 概略方块图; 图2A及2B分别系在图1之离子源中阴极之实施例的 前视图及立体图; 图3A-3D分别系在图1之离子源中灯丝之实施例的立 体图、前视图、俯视图及侧视图; 图4A-4C分别系在图1之离子源中阴极绝缘体之实施 例的立体图、截面图及部分截面图; 图5系概略地显示用于离子源控制器以用以控制抽 取电流的回馈回路; 图6系概略地显示根据第一控制演算法的图1之离 子源控制器之操作;以及 图7系概略地显示根据第二控制演算法的图1之离 子源控制器之操作。 |
