| 发明名称 | 化学放大抗蚀组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于化学放大抗蚀剂的抗蚀组合物，所述抗蚀组合物包含光酸引发剂和式(II)聚合物：∴其中R<SUB>1</SUB>选自氢和C<SUB>1</SUB>至C<SUB>20</SUB>脂烃；R<SUB>2</SUB>选自氢或甲基；R<SUB>3</SUB>选自叔丁基或四氢吡喃基；n和m各自为整数，其中n/(m+n)比例为0.1至0.5。本发明化学放大抗蚀组合物对干蚀工艺具有强的抗蚀性，对膜材料具有优良的粘合性，可利用常规显影剂显影。 | ||
| 申请公布号 | CN100335971C | 申请公布日期 | 2007.09.05 |
| 申请号 | CN02152489.0 | 申请日期 | 1998.12.02 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 崔相俊;姜律;郑东恒;朴春根 |
| 分类号 | G03F7/027(2006.01);C08F222/06(2006.01) | 主分类号 | G03F7/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 郭国清;樊卫民 |
| 主权项 | 1.一种用于化学放大抗蚀剂的抗蚀组合物，所述抗蚀组合物包含光酸引发剂和式(II)聚合物：<img file="C021524890002C1.GIF" wi="657" he="600" />其中R<sub>1</sub>选自氢和C<sub>1</sub>至C<sub>20</sub>脂烃，R<sub>2</sub>为氢或甲基，R<sub>3</sub>为叔丁基或四氢吡喃基；n和m各自为整数；和其中n/(m+n)范围为0.1至0.5。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市 | ||