| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包含: - 一用于提供一辐射之投影光束之辐射系统; - 一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构 件用以根据一所要图案将该投影光束图案化; - 一用于固持一基板之基板台; - 一用于将该图案化光束投影至该基板之一目标 部分上之投影系统;及 - 一劳仑兹(Lorentz)致动器,其包含一与至少一个冷 却部件有热接触之线圈排列, 该装置之特征在于:于该冷却部件中提供一或多个 槽,进行配置以提高涡电流通路的电阻,且降低藉 由该一或多个槽所感生之温度增加。 2.如申请专利范围第1项之微影投影装置,其中该等 槽排列为彼此大体平行。 3.如申请专利范围第1项或第2项之微影投影装置, 其中该等槽排列为与感生电场方向大体垂直。 4.如申请专利范围第1项或第2项之微影投影装置, 其中该等槽排列为大体平行于该感生电场方向,或 与该感生电场方向大体成一斜角。 5.如申请专利范围第1项或第2项之微影投影装置, 其中限制该等槽之长度,以防止其延伸达到该冷却 部件之总长度。 6.如申请专利范围第1项或第2项之微影投影装置, 其中相邻槽自该冷却部件的对侧延伸。 7.如申请专利范围第1项或第2项之微影投影装置, 其中冷却通道以如此之一方式与该等槽整合以提 供经排列以减小流动阻抗的复数条平行通路。 8.如申请专利范围第1项或第2项之微影投影装置, 其中冷却通道排列成大体对称之网路以提供该冷 却部件之均匀覆盖率。 9.如申请专利范围第1项或第2项之微影投影装置, 其中将该等槽填塞以防止自该线圈释气。 10.一种元件制造方法,包含以下步骤: - 提供一至少部分为一辐射感应材料层所覆盖之 基板; - 使用一辐射系统提供一投影辐射光束; - 使用图案化构件以赋予该投影光束之横截面一 图案; - 将该图案化辐射光束投影至该辐射感应材料层 之一目标部分上;及 - 运行一劳仑兹致动器,其包含一与至少一个冷却 部件有热接触之线圈排列, 该方法之特征在于:于该冷却部件中提供一或多个 槽,进行配置以提高涡电流通路之电阻,且降低藉 由该一或多个槽所感生之温度增加。 图式简单说明: 图1描绘一根据本发明之一实施例的微影投影装置 ; 图2描绘用于一劳仑兹致动器的磁性总成之侧视图 ,其显示了具有附属冷却部件之线圈; 图3描绘一具有冷却部件之劳仑兹致动器之顶视图 ,其显示了涡电流; 图4描绘一具有冷却部件之劳仑兹致动器之顶视图 ,其显示了易产生涡电流之部分; 图5描绘一根据本发明之一较佳实施例的具有一槽 化冷却部件之劳仑兹致动器之顶视图; 图6描绘一根据本发明之另一较佳实施例的具有一 槽化冷却部件之劳仑兹致动器之顶视图; 图7描绘一根据本发明之又一较佳实施例的具有一 槽化冷却部件之劳仑兹致动器之顶视图,其显示了 具有槽之冷却通道的较佳排列。 |
