发明名称 将雷射光成形为用以与沉积于基材上之薄膜交互作用之均质线形光束的系统及方法
摘要 本发明系揭露将一雷射光束成形及均质化用以与一薄膜交互作用之系统及方法。该成形及均质化系统系可包括一透镜阵列及一定位成可自透镜阵列接收雷射光之透镜并产生一各别长形影像于对于透镜阵列中各透镜之一平面中。此外,该系统系可包含一光束阑,其具有一定位在该平面中之边缘,及一可移式安装件,其旋转透镜阵列的一透镜以改变长形影像的一者与光束阑边缘之间的一对准。
申请公布号 TW200730807 申请公布日期 2007.08.16
申请号 TW095138972 申请日期 2006.10.23
申请人 希玛股份有限公司 发明人 亚金斯;山德史壮
分类号 G01M11/00(2006.01) 主分类号 G01M11/00(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国