| 摘要 |
〔课题〕在将ArF微影成像世代以后之抗蚀剂做为光罩使用之蚀刻处理中，抑制过剩之沉积物之形成与附着。〔解决方法〕利用具备：真空容器101，设置被加工试样107之被加工试样设置手段102，冷却气体导入手段111，高频电源106，匹配器105，电力导入手段104，高频偏压电源110之蚀刻装置，以高频电力电浆化被导入真空容器101内之气体，并对被加工试样107施加高频偏压电力以进行被加工试料107之表面处理之蚀刻处理方法中，利用高沉积性气体处理被加工试样107时，将开始处理时之被加工试样107之温度保持于企望之温度。 |
