发明名称 |
用于产生干射光束之等光程长度之干涉微影系统及方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于将图案写入至基板上之系统及方法。导向第一光束及第二光束以进行会聚且大体重叠于一基板上之一共用区域中。可进行此使得该第一光束及该第二光束在该重叠区域中彼此时间相干且空间相干来形成干射条纹以便界定一写入影像。调节该第一光束及该第二光束之一光束宽度。进行该调整可使得当该等光束达至该共用区域时其各别光程长度相匹配以确保该第一光束及该第二光束在该共用区域之一整个宽度上彼此空间相干且空间相干。在一个实例中,相对于该写入影像而移动该基板,同时将图案写入至该基板上。在另一实例中,该基板保持静止。 |
申请公布号 |
TW200730874 |
申请公布日期 |
2007.08.16 |
申请号 |
TW095147165 |
申请日期 |
2006.12.15 |
申请人 |
ASML控股公司;ASML公司 |
发明人 |
哈利 史威尔;乔汉那 约伯 马瑟仕 贝西曼;MATHEUS |
分类号 |
G02B26/04(2006.01);G02B27/10(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G02B26/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |