发明名称 硅的湿化学处理方法及装置
摘要 本发明涉及一种使用含有水、硝酸及氢氟酸的蚀刻液体实施硅的湿化学处理的方法,其中通过将氮氧化物(NO<SUB>x</SUB>)通入所述蚀刻液体中,在该蚀刻液体首次用于硅的湿化学处理前将其活化。本发明还涉及一装置,该装置包括:a)第一容器(1),借助于一含有水、硝酸及氢氟酸的蚀刻液体(4),在该容器内对硅进行湿化学处理,b)第二容器(2),其中已装有新鲜蚀刻液体(5),和c)第一容器与第二容器间的连接管线(8),经由该管线(8)将实施湿化学处理过程中在第一容器内形成的氮氧化物(NO<SUB>x</SUB>)输送至第二容器。
申请公布号 CN1332068C 申请公布日期 2007.08.15
申请号 CN200310101481.7 申请日期 2003.10.17
申请人 硅电子股份公司 发明人 马克西米利安·斯塔德勒;京特·施瓦布;赫尔穆特·弗兰克
分类号 C23F1/24(2006.01) 主分类号 C23F1/24(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 于辉
主权项 1、一种使用含有水、硝酸及氢氟酸的蚀刻液体实施硅的湿化学处理的方法,其中通过将氮氧化物NOx通入所述蚀刻液体中,在该蚀刻液体首次用于硅的湿化学处理前将其活化,其中用于活化的氮氧化物NOx是在第一容器(1)内用一蚀刻液体对硅实施湿化学处理的过程中产生的,所述蚀刻液体含有水、硝酸及氢氟酸,将所形成的氮氧化物NOx从第一容器内排放出来,并将其送入第二容器(2)以活化新鲜蚀刻液体(5),其中所述第二容器中装有的新鲜蚀刻液体(5)同样含有水、硝酸和氢氟酸。
地址 联邦德国慕尼黑