发明名称 一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法
摘要 一种X射线衍射光学元件—高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法,步骤如下:1.在自支撑X射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层;2.在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶,得到光栅图形;3.所得片子放在电镀液中电镀出X射线掩模吸收体金图形;4.所得片子去除电子束光刻胶;5.再去除电子束光刻胶图形下的薄铬薄金层;6.玻璃上旋涂聚酰亚胺,并固化;7.在聚酰亚胺表面上淀积金;8.在金表面旋涂X射线光刻胶,完成的高分辨率光栅X射线掩模进行X射线光刻并显影;9.对X射线光刻后的片子进行金去除;10.去除聚酰亚胺;11.去除X射线光刻胶;12.背面腐蚀透玻璃;完成高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作。
申请公布号 CN101017214A 申请公布日期 2007.08.15
申请号 CN200610003067.6 申请日期 2006.02.08
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 谢常青;叶甜春
分类号 G02B5/18(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01) 主分类号 G02B5/18(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 段成云
主权项 1、一种X射线衍射光学元件-高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法,这种X射线衍射光学元件主要用于X射线波段的谱学诊断,它的特点采用电子束光刻技术手段制作一块X射线掩模,然后并行的以X射线光刻为手段进行复制,从而制作出自支撑全镂空透射光栅,其步骤如下:步骤1、在自支撑X射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层,作为电镀衬基;步骤2、在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶,并进行电子束光刻,得到高分辨率光栅图形,形成电镀模子;步骤3、将步骤2所得片子放在金电镀液中电镀出X射线掩模吸收体金图形;步骤4、对步骤3所得片子去除电子束光刻胶;步骤5、再去除电子束光刻胶图形下的薄铬薄金层,完成高分辨率光栅X射线掩模的制作;步骤6、玻璃上旋涂聚酰亚胺,并固化;步骤7、在聚酰亚胺表面上淀积金;步骤8、在金表面旋涂X射线光刻胶,用步骤5完成的高分辨率光栅X射线掩模进行X射线光刻并显影;步骤9、对X射线光刻后的片子进行金去除;步骤10、去除聚酰亚胺;步骤11、去除X射线光刻胶;步骤12、背面腐蚀透玻璃;完成高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作。
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