| 发明名称 | 着色二氧化硅类涂膜形成用组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于形成着色层的着色二氧化硅类涂膜形成用组合物，所述着色层适合用于遮掩形成在半导体元件上的图案形状。该着色二氧化硅类涂膜形成用组合物含有硅氧烷聚合物、着色剂和溶剂。作为该硅氧烷聚合物，适合使用梯形硅氧烷聚合物。 | ||
| 申请公布号 | CN101016414A | 申请公布日期 | 2007.08.15 |
| 申请号 | CN200710006373.X | 申请日期 | 2007.02.01 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 坂本好谦 |
| 分类号 | C08L83/04(2006.01);C09D183/04(2006.01);H01L21/31(2006.01) | 主分类号 | C08L83/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 徐雁漪 |
| 主权项 | 1.一种着色二氧化硅类涂膜形成用组合物，其特征在于，含有硅氧烷聚合物、着色剂和溶剂。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||