首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method with feed-forward focus control.
摘要
申请公布号 EP1566696(B1) 申请公布日期 2007.08.08
申请号 EP20050075386 申请日期 2005.02.17
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 BUTLER, HANS;BOONMAN, MARCUS EMILE JOANNES;VAN DEN BIGGELAAR, PETRUS MARINUS CHRISTIANUS M.
分类号 G03F7/20;H01L21/027;G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com