发明名称 有机电激发光二极体阵列制作方法
摘要 本发明系揭露一种有机电激发光二极体阵列制作方法,其系藉由方向性旋转涂布技术,来成长不同有机发光材料于同一平面,达到控制单一平面之发光层的可发光颜色类别,形成单色或者全彩之有机电激发光二极体。
申请公布号 TWI284992 申请公布日期 2007.08.01
申请号 TW094101833 申请日期 2005.01.21
申请人 国立中正大学 发明人 郑荣伟;何正荣;彭子洋;吴南仪;黄亲民
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项 1.一种有机电激发光二极体阵列制作方法,其包括 下列步骤: 提供一基材; 于该基材上形成数个呈平行列状排列之阳极; 于该基材上形成数个彼此间相互平行且与该阳极 垂直之绝缘阻隔堤; 利用方向性涂布技术,于两该绝缘阻隔堤间涂布一 有机发光层;以及 于该基材上形成阴极。 2.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光二极 体阵列制作方法,其中该绝缘阻隔堤之材质可为任 何能图案化并于图案化过程不会对阳极造成伤害 的介电材料。 3.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光二极 体阵列制作方法,其中该阴极系呈现画素状或条状 位于该发光层上,或可以覆盖于整个该基材表面上 。 4.如申请专利范围第1项所述之有机电激发光二极 体阵列制作方法,若为增加二极体之发光效率而在 该有机发光层外加入电洞注入层、电洞传导层、 电子传导层、或电子注入层,此额外之注入或传导 层可采用方向性旋转涂布技术或其他适合之现有 制程技术来形成。 5.一种有机电激发光二极体阵列制作方法,其包括 下列步骤: 提供一基材; 于该基材上形成一画素状之阳极; 于该基材上形成数个彼此间相互平行之绝缘阻隔 堤; 利用方向性涂布技术,于两该绝缘阻隔堤间涂布一 有机发光层;以及 于该基材上形成一图案化之阴极。 6.如申请专利范围第5项所述之有机电激发光二极 体阵列制作方法,其中该绝缘阻隔场层之材质可为 任何能图案化并于图案化过程不会对该阳极造成 伤害的介电材料。 7.如申请专利范围第5项所述之有机电激发光二极 体阵列制作方法,其中该阴极系呈现画素状或条状 垂直于该有机发光层上。 8.如申请专利范围第5项所述之有机电激发光二极 体阵列制作方法,若为增加二极体之发光效率而在 该有机发光层外加入电洞注入层、电洞传导层、 电子传导层、或电子注入层,此额外之注入或传导 层可采用方向性旋转涂布技术或其他适合之现有 制程技术来形成。 图式简单说明: 第一图为习知一般型态之OLED元件的示意图。 第一(a)图为习知多层有激发光模组层的示意图。 第二(a)图为习知堆叠结构的全彩OLED显示器示意图 。 第二(b)图为习知一平行结构的全彩OLED显示器示意 图。 第二(c)图为习知另一平行结构的全彩OLED显示器示 意图。 第二(d)图为习知另一平行结构的全彩OLED显示器示 意图。 第三图系本发明之制程步骤流程图。 第四(a)图至第四(c)图、第四(d1、d2)图为本发明之 各步骤示意图。 第五(a)与第五(b)图系方向性旋转涂布技术的示意 图。 第六(a)图至第六(c)图系当多层发光模组层时,本发 明之各步骤剖面示意图。 第七(a)图为画素状阳极示意图。 第七(b)图为条状阳极示意图。
地址 嘉义县民雄乡三兴村160号