| 主权项 |
1.一种用于检查平坦图案媒体之方法,包含: 经由使用相对较低解析度成像与定位协定之成像 机构,来检测平坦图案媒体的缺陷; 同时协同地进行:使用根据相对较高解析度成像与 定位协定之成像机构,以重新检阅由该检测步骤所 注意的缺陷。 2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该重新检阅 步骤使用动态最佳化的飞击之自动聚焦成像。 3.一种用于检测缺陷之方法,其与待测的平坦图案 物体中缺陷候选者之飞击重新检阅及分类协同进 行,该方法包含以下之平行操作: 取得物体之影像;检测该物体之缺陷候选者;以及 经由具有数个根据第一相对较低操作解析度所操 作的缺陷检测子系统模组之缺陷检测子系统,而指 定重新检阅价値数値给予该缺陷候选者;以上皆同 时与以下协同地进行: 取得在该缺陷候选者附近的较小区域之影像;重新 检阅该较小区域;以及经由具有数个根据第二相对 较高操作解析度所操作的缺陷重新检阅子系统模 组之缺陷重新检阅子系统,而将该较小区域分类。 4.根据申请专利范围第3项之方法,包含: 使用将该协同进行之较高解析度重新检阅的移动 最佳化之动态缺陷重新检阅子系统模组的快递演 算法,而将该缺陷重新检阅子系统模组所撷取的较 高优先的缺陷候选者之数目最大化,以及将该缺陷 重新检阅子系统模组所行进的距离最小化。 5.根据申请专利范围第4项之方法,其中该快递演算 法进一步地包含: 针对每一个缺陷重新检阅子系统并且在该移动最 佳化之每一个重复下,以图像理论来建构向前之可 实行的移动图像,其具有相应于每一个缺陷候选者 以及其所相结合模组的目前位置之节点,并且具有 相应于该等节点之间可实行的移动之弧形; 根据从代表错过其他缺陷的成本、所需移动的距 离、以及目标缺陷候选者之重新检阅价値等之函 数所选择的适合之成本函数,来结合针对象徵从第 一个该缺陷候选者至第二个该缺陷候选者的模组 移动之该每一个弧形的成本,并且藉此得到所产生 的图像; 解出所产生的图像,用以找出最小的成本途径,其 是由缺陷重新检阅子系统模组目前的位置至顺着 扫描方向所考量的视窗终点之缺陷到缺陷转移的 缺陷序列所表示;以及 计算缺陷重新检阅子系统模组之移动资料,用以控 制缺陷重新检阅子系统模组之移动。 6.根据申请专利范围第3项之方法,包含: 开始于自目标候选者位置起算的预定距离,并且在 缺陷重新检阅子系统模组的移动期间中,自动地将 成像构件聚焦; 至少使用计算于影像上之聚焦品质计量的样本,而 获得聚焦品质计量曲线; 以平滑函数插入聚焦品质计量曲线之样本,藉以决 定用来移动聚焦光学仪器的z-台座的最大化之焦 点;以及 指示z-台座至将该聚焦品质计量曲线最大化之z-轴 位置,以实现目标候选者位置的最敏锐聚焦。 7.根据申请专利范围第6项之方法,其中该聚焦步骤 包含: 从缺陷重新检阅子系统之成像构件撷取影像资料 之序列; 而且其中该获得步骤包含: 使用与在影像上所计算的该聚焦品质度量相组合 的影像资料之序列,以对聚焦品质曲线取样。 8.根据申请专利范围第3项之方法,包含: 在缺陷检测子系统中产生缺陷候选者之序列; 藉由数个缺陷重新检阅子系统模组,将该序列排列 并且排定时间,以为成像之用; 快递缺陷重新检阅子系统模组,藉以执行未解决的 缺陷候选者之相对较高解析度之成像,以产生与相 对较高解析度影像资料相结合的缺陷候选者之序 列; 使缺陷候选者经历两个阶段之处理,其涵盖: 自动重新检阅过程;以及 自动分类过程; 在自动重新检阅过程期间中,比较高解析度候选者 影像与储存在系统记忆体中之已知缺陷状态的参 考影像,其中的比较包含补偿在测试与参考之间的 已知变化,包含修正以下其中至少一者: a)成像仪器之灵敏度,以及 b)感测器映像点之灵敏度变化; 补偿在感测器映像点位准上的空间排列失准,藉以 确认在候选者位置上正当缺陷之存在有效,或者将 缺陷排拒为假的缺陷,其包含低解析度缺陷检测子 系统(defect detection subsystem,DDS)之已知限制所造成 的结果; 传达正当缺陷上的资讯,以为自动分类处理之用; 其后 在自动分类处理期间中,使用与自动分类处理输出 相组合的相对较高解析度之缺陷影像,用以攫取缺 陷的相关特点;以及 经由分类处理,从事缺陷型式之最后决定。 9.一种用于检查平坦图案媒体之设备,包含: 检测子系统,其经由使用相对较低解析度之成像以 及定位协定的成像机构,用来检测缺陷候选者;以 及 重新检阅子系统,其使用相对较高解析度之成像以 及定位协定,而协同进行地重新检阅由该检测子系 统所注意的缺陷。 10.根据申请专利范围第9项之设备,其中该检测子 系统进一步地用来指定重新检阅价値给予该缺陷 候选者。 11.一种用于待测物体中的缺陷检测、协同进行之 飞击的缺陷重新检阅、以及现象分类之设备,该设 备包含: 缺陷检测子系统,其具有数个缺陷检测子系统模组 ,而根据第一相对较低的操作解析度,用来取得物 体影像、用来检测缺陷候选者、以及用来指定重 新检阅价値数値给予该缺陷候选者;以及 缺陷重新检阅子系统,其具有数个缺陷重新检阅子 系统模组,用来协同进行地取得缺陷候选者附近较 小区域之影像,以使用相对较高解析度而重新检阅 该缺陷候选者以及将该缺陷候选者分类为缺陷。 12.根据申请专利范围第11项之设备,其中将该缺陷 检测子系统架置于第一可移动的台架之上,并且将 缺陷重新检阅子系统架置于第二可移动的台架之 上。 13.根据申请专利范围第11项之设备,其中该缺陷检 测子系统包含数个固定地架置于第一可移动台架 之上的检测模组,而缺陷重新检阅子系统则包含数 个架置于顺着第二可移动台架而移动之缺陷重新 检阅子系统模组。 14.根据申请专利范围第13项之设备,其中第一重新 检阅模组的移动乃受限于第二重新检阅模组之位 置,并且进一步地包含一控制器,用以: 建构向前的流程图,其具有相应于缺陷候选者与缺 陷重新检阅子系统模组其中之一者之目前位置的 节点,以及相应于从缺陷重新检阅子系统模组目前 位置至第一个所选择的缺陷候选者和位于第二个 所选择的缺陷候选者之间的可实行移动的弧形; 针对象徵从一个缺陷候选者至另一个缺陷候选者 的模组移动之每一个弧形,结合成本至弧形而成为 成本因数之函数,其包含错过其他缺陷之成本、所 需要的移动距离、以及已撷取的缺陷之价値,用以 获得所产生的图像; 针对从缺陷重新检阅子系统模组之目前位置至所 考量的z-轴视窗终点之最小成本途径,解出其所产 生的图像;以及 针对缺陷重新子系统模组,计算其移动的资料,以 为控制缺陷重新检阅子系统模组的移动之用。 图式简单说明: 图1为面板部分小区域之俯视图,示范可能的缺陷 型式。 图2A与图2B为不同的立体图,其是相应于相反扫描 方向之本发明一种可能的实现方式。 图3A与图3B为可行性范围之座标图。 图4A、图4B与图4C为用以示范接近路径策略之座标 图。 图5A与图5B为用以示范自动聚焦策略之座标图。 |
