光罩基底及光罩

摘要

〔课题〕提供一种用以制造适合于多色波曝光之FPD元件之FPD用大型光罩及光罩基底。〔解决手段〕一种光罩基底系在透光性基板上具有至少藉由具有遮光功能之下层部和具有反射防止功能之上层部之所构成之遮光性膜，其特征在于：前述遮光性膜系在由超高压水银灯来放射之至少i射线涵盖至g射线之波长区域，控制膜面反射率之变动幅宽，成为未满1％之范围内之膜。