用于移除光阻剂残留物的方法及pH缓冲的水基清洁组合物PH BUFFERED AQUEOUS CLEANING COMPOSITION AND METHOD FOR REMOVING PHOTORESIST RESIDUE

摘要

一种残留物清洁组合物，包括：(a)水；(b)氟化物；和(c)pH缓冲系统，其包括有机酸和硷。该有机酸可以是胺基烷基磺酸和/或胺基烷基羧酸。该硷可以是胺和/或氢氧化四级烷基铵。该组合物基本上不含加入的有机溶剂并且pH范围为约5至约12。一种从基材除去残留物的方法，包括将该清洁组合物与残留物接触。一种定义图案的方法，包括将图案通过光阻剂蚀刻进入基材，加热具有图案的基材到足以灰化该光阻剂并且提供残留物的温度，且通过将残留物与所述清洁组合物接触而除去残留物。