| 发明名称 | 具有可变筛孔的离子注入系统及使用其的离子注入方法 | ||
| 摘要 | 一种离子注入系统包括：源部分、束线部分、具有压盘的目标腔室、和具有剂量杯和第一可变筛孔的法拉第部分，其中，压盘能够沿第二方向移动且支撑半导体衬底，并且第一可变筛孔包括具有沿第一方向的第一可调宽度的第一开口。 | ||
| 申请公布号 | CN101009191A | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
| 申请号 | CN200610172141.7 | 申请日期 | 2006.12.29 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 李承熙;梁英守;金承彻;崔灿承;张圆培;金民锡 |
| 分类号 | H01J37/317(2006.01);H01L21/265(2006.01);H01L21/425(2006.01);C30B31/22(2006.01) | 主分类号 | H01J37/317(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 戎志敏 |
| 主权项 | 1.一种离子注入系统，包括：源部分；束线部分；具有压盘的目标腔室，压盘能够沿第二方向移动且支撑半导体衬底；以及法拉第部分，具有剂量杯和第一可变筛孔，其中第一可变筛孔包括具有沿第一方向的第一可调宽度的第一开口。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||