发明名称 |
光学记录介质及其生产方法以及记录和复制的方法 |
摘要 |
本发明的目标是提供一种光学记录介质,其中可以解决交叉写和交叉删除的问题,并且能够进行高密度记录,交叉写是指信号错误地记录在相邻的轨道上,交叉删除是指记录在相邻轨道上的信号被错误删除;一种生产光学记录介质的方法,以及一种记录和复制光学介质的方法。为了实现这一目标,该光学介质包括:基板、在基板上或上方吸收光并产生热的光吸收层、记录层和阻止在记录层上记录的记录阻止层,其中该记录阻止层设置在记录层和光吸收层之间,和相邻轨道之间,并且记录标记通过光吸收层的光吸收功能形成在记录层上。 |
申请公布号 |
CN101010741A |
申请公布日期 |
2007.08.01 |
申请号 |
CN200580028771.0 |
申请日期 |
2005.08.19 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
林嘉隆;三浦博;龟崎久光 |
分类号 |
G11B7/24(2006.01);G11B7/004(2006.01);G11B7/243(2006.01);G11B7/007(2006.01);G11B7/244(2006.01);G11B7/26(2006.01);G11B7/241(2006.01) |
主分类号 |
G11B7/24(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1、一种光学记录介质,包括:基板;光学吸收层,其在该基板上或上方吸收光并产生热;记录层;和记录阻挡部分,其阻止在该记录层上记录,其中该记录阻挡部分设置在该记录层和该光学吸收层之间,和相邻轨道之间,和记录标记通过该光学吸收层的光学吸收功能形成在该记录层上。 |
地址 |
日本东京都 |