发明名称 |
非挥发性存储器及其制造方法 |
摘要 |
一种非挥发性存储器,由基底、多个主体层、多个控制栅极、多个浮置栅极与多个掺杂区所构成。基底表面具有一层绝缘层。主体层设置于基底上,主体层呈条状平行排列并往第一方向延伸。控制栅极设置于基底上,控制栅极呈条状平行排列,并往第二方向延伸,其中,第二方向与第一方向交错,且控制栅极填满主体层于第二方向上的间隙。浮置栅极设置于控制栅极与主体层之间。掺杂区则设置于控制栅极之间的主体层中。 |
申请公布号 |
CN101005072A |
申请公布日期 |
2007.07.25 |
申请号 |
CN200610005890.0 |
申请日期 |
2006.01.19 |
申请人 |
力晶半导体股份有限公司 |
发明人 |
赖亮全 |
分类号 |
H01L27/105(2006.01);H01L21/8239(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/105(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯宇 |
主权项 |
1.一种非挥发性存储器,包括:基底,该基底表面设置有绝缘层;多个主体层,设置于该基底上,该些主体层平行排列,并往第一方向延伸;多个控制栅极,设置于该基底上,该些控制栅极平行排列,并往第二方向延伸,该第二方向与该第一方向交错,且该些控制栅极填满该些主体层于该第二方向上的间隙;多个浮置栅极,设置于该些控制栅极与该些主体层之间;以及多个掺杂区,设置于该些控制栅极之间的该些主体层中。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |