发明名称 非挥发性存储器及其制造方法
摘要 一种非挥发性存储器,由基底、多个主体层、多个控制栅极、多个浮置栅极与多个掺杂区所构成。基底表面具有一层绝缘层。主体层设置于基底上,主体层呈条状平行排列并往第一方向延伸。控制栅极设置于基底上,控制栅极呈条状平行排列,并往第二方向延伸,其中,第二方向与第一方向交错,且控制栅极填满主体层于第二方向上的间隙。浮置栅极设置于控制栅极与主体层之间。掺杂区则设置于控制栅极之间的主体层中。
申请公布号 CN101005072A 申请公布日期 2007.07.25
申请号 CN200610005890.0 申请日期 2006.01.19
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 赖亮全
分类号 H01L27/105(2006.01);H01L21/8239(2006.01) 主分类号 H01L27/105(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1.一种非挥发性存储器,包括:基底,该基底表面设置有绝缘层;多个主体层,设置于该基底上,该些主体层平行排列,并往第一方向延伸;多个控制栅极,设置于该基底上,该些控制栅极平行排列,并往第二方向延伸,该第二方向与该第一方向交错,且该些控制栅极填满该些主体层于该第二方向上的间隙;多个浮置栅极,设置于该些控制栅极与该些主体层之间;以及多个掺杂区,设置于该些控制栅极之间的该些主体层中。
地址 中国台湾新竹市