发明名称 二氧化硅的化学辅助研磨
摘要 本发明涉及多孔的表面改性二氧化硅颗粒的分散体,包括液体和多孔颗粒;其中由关系式(I)确定的分散体中颗粒的最大占据体积分数(Φ<SUB>max</SUB>)为至少约0.55,其中Φ为液体中固体的占据体积分数,Φ<SUB>max</SUB>为当粘度接近无穷大时占据体积分数的渐近极限(最大值),b为固有粘度,η<SUB>0</SUB>为液体的粘度,η为分散体的粘度。
申请公布号 CN101006009A 申请公布日期 2007.07.25
申请号 CN200580027863.7 申请日期 2005.06.15
申请人 格雷斯公司 发明人 D·M·查普曼
分类号 C01B33/141(2006.01) 主分类号 C01B33/141(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 吕彩霞;李连涛
主权项 1.一种多孔的表面改性阴离子二氧化硅颗粒的分散体,包括:(a)液体,和(b)表面改性阴离子二氧化硅颗粒,其中由以下关系式确定的所述液体中所述颗粒的最大占据体积分数(Φmax)为至少约0.55:<math> <mrow> <mi>&eta;</mi> <mo>/</mo> <msub> <mi>&eta;</mi> <mn>0</mn> </msub> <mo>=</mo> <mo>&lsqb;</mo> <mn>1</mn> <mo>-</mo> <mrow> <mo>(</mo> <mi>&Phi;</mi> <mo>/</mo> <msub> <mi>&Phi;</mi> <mi>max</mi> </msub> <mo>)</mo> </mrow> <msup> <mo>&rsqb;</mo> <mrow> <mo>-</mo> <mo>&lsqb;</mo> <mi>b</mi> <mo>&rsqb;</mo> <msub> <mi>&Phi;</mi> <mi>max</mi> </msub> <mi></mi> </mrow> </msup> </mrow> </math> 其中Φ为液体中固体的占据体积分数,Φmax为当粘度接近无穷大时占据体积分数的渐近极限,b为固有粘度,η0为液体的粘度,η为分散体的粘度。
地址 美国马里兰州