一种可加电场的脉冲激光沉积制膜系统

摘要

本发明涉及一种可加电场的脉冲激光沉积制膜系统，该系统为在传统PLD设备的基片加热器后方加一套强电场装置，该强电场装置有两个金属板电极，分别放置于两“凹”形陶瓷块的凹槽中，两陶瓷块垂直放置于一陶瓷固定片，并且互相平行固定在陶瓷固定片上；陶瓷块的凹槽一侧打一导线通孔，套有陶瓷管的导线从金属板电极上穿出导线通孔，与一个电阻和变压器电源相连，组成整个电路系统。该装置结构简单。利用本发明装置生长出的薄膜能显著改变微结构，进一步改变薄膜的性能。为制备研究新型特殊结构的薄膜样品提供了有效的实验装置。

主权项

1.一种可加电场的脉冲激光沉积制膜系统，包括真空室(14)，由机械泵、分子泵和管路组成的真空机组(5)；放置在真空室(14)外的高压气瓶(9)，通过真空室壁上的针阀与真空室(14)连通组成充气系统；真空室(14)中安装基片加热器(10)和靶组件(13)；由控制电源与基片加热器(10)连接组成加热控温部分；其特征在于：所述的基片加热器(10)后方设置一外加强电场装置(11)，该外加强电场装置(11)由两块呈“凹”形且四个下角均设有螺孔的陶瓷块(15)、两个金属板电极(17)、一个陶瓷固定片(16)和一根金属杆(20)组成；其中所述的两个金属板电极(17)，分别放置于所述的“凹”形陶瓷块(15)的凹槽中，两块陶瓷块(15)垂直于陶瓷固定片(16)，并且互相平行固定在陶瓷固定片(16)上；陶瓷块(15)的凹槽一侧打一导线通孔，套有陶瓷管的导线(19)从金属板电极(17)上穿出导线通孔，与一个电阻和变压器电源相连；准分子脉冲激光器(1)放置在真空室(14)外，其产生的脉冲激光经过聚焦透镜聚焦后，经光束扫描镜(3)反射，通过真空室(14)的石英玻璃窗口(4)照射到靶材上。