金属内连线之制作方法与结构

摘要

一金属内连线制程与结构，其提供设有第一导电体之基底，先于基底上形成第一介电层与第一图案化硬罩幕，再用第一图案化硬罩幕蚀刻形成第一开口与第二导电体，并于第一图案化硬罩幕上形成第二介电层与第二图案化硬罩幕。最后用第二图案化硬罩幕作蚀刻遮罩且用第一图案化硬罩幕作蚀刻停止层形成第二开口与第三导电体。