| 发明名称 |
辐射系统及微影装置 |
| 摘要 |
本发明揭示一种用于提供一辐射投影束之辐射系统。该辐射系统包括：一远紫外辐射源，其用于提供远紫外辐射；及一污染障壁，其包括用于捕集来自该辐射源之污染材料之复数个密集(closely packed)箔板。该污染障壁封闭该远紫外辐射源。 |
| 申请公布号 |
TW200727089 |
申请公布日期 |
2007.07.16 |
| 申请号 |
TW095143424 |
申请日期 |
2006.11.23 |
| 申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
德克 让 威尔佛德 昆德拉;马登 马瑞司 乔汉娜 威贺默思 凡 赫本;MAARTEN MARINUS JOHANNES WILHELMUS |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01S3/02(2006.01);H01S3/04(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
荷兰 |
