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发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Oxidfilms eines Halbleiterbauelementes
摘要
申请公布号 DE19652741(B4) 申请公布日期 2007.07.05
申请号 DE19961052741 申请日期 1996.12.18
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. 发明人 JUN, YONG-MIN;JANG, JAE-MAN;CHOI, SANG-KOOK;PARK, CHAN-SIK
分类号 H01L21/31;H01L21/316;C23C14/54;G01B21/08;H01L21/66 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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