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经营范围
发明名称
Methode, einheitliche Silizidbereiche herzustellen
摘要
申请公布号
DE60032269(T2)
申请公布日期
2007.07.05
申请号
DE20006032269T
申请日期
2000.02.03
申请人
CHARTERED SEMICONDUCTOR MFG. PTE. LTD.
发明人
CHAN, LAP;SING HO, CHAW;SAM LI, FONG YAU;NG, HOU TEE
分类号
H01L21/285;C23C10/00;C23C26/00;C30B1/02;H01L21/28;H01L21/336
主分类号
H01L21/285
代理机构
代理人
主权项
地址
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