发明名称 |
具有保护二极管的氮化硅只读存储器结构及其操作方法 |
摘要 |
一种具有保护二极管的氮化硅只读存储器结构,此结构是由基底、氮化硅只读存储器存储单元、N<SUP>+</SUP>掺杂区、N<SUP>+</SUP>保护环与多晶硅保护环构成。氮化硅只读存储器存储单元位于基底上。N<SUP>+</SUP>掺杂区位于基底中,且N<SUP>+</SUP>掺杂区与氮化硅只读存储器存储单元的一字符线电接触。N<SUP>+</SUP>保护环位于环绕N<SUP>+</SUP>掺杂区的基底中。多晶硅保护环位于N<SUP>+</SUP>掺杂区与N<SUP>+</SUP>保护环之间的基底上。 |
申请公布号 |
CN1324713C |
申请公布日期 |
2007.07.04 |
申请号 |
CN02107448.8 |
申请日期 |
2002.03.19 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
郭东政 |
分类号 |
H01L27/112(2006.01);H01L21/8246(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/112(2006.01) |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王学强 |
主权项 |
权利要求书1.一种具有保护二极管的氮化硅只读存储器结构,其特征为:该结构包括:一基底,该基底上具有一氮化硅只读存储器存储单元;一N+掺杂区,该N+掺杂区位于该基底中,且该N+掺杂区与该氮化硅只读存储器存储单元的一字符线电接触;一第一N+保护环,该第一N+保护环位于环绕该N+掺杂区的该基底中;以及一多晶硅保护环,该多晶硅保护环位于该N+掺杂区与该第一N+保护环之间的该基底上。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区力行路16号 |