| 发明名称 | 制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法及通过该方法制得的用于磁记录介质的玻璃基底 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括用磨料粒抛光玻璃基底，然后用0.02－0.3％的氢氟酸水溶液洗涤该基底；还涉及一种通过该方法制造的用于磁记录介质的玻璃基底。制造了一种用于磁记录介质的抛光玻璃基底，由此在抛光该玻璃基底后的洗涤过程中可以使基底的基底表面缺陷和全波纹的出现最小化，并由此可以在后续的纹理化步骤中以均匀的方式形成纹理，而不会在基底间造成差异。 | ||
| 申请公布号 | CN1993298A | 申请公布日期 | 2007.07.04 |
| 申请号 | CN200580025834.7 | 申请日期 | 2005.08.04 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 |
| 分类号 | C03C23/00(2006.01);G11B5/73(2006.01);C03C15/00(2006.01);G11B5/84(2006.01);C03C19/00(2006.01) | 主分类号 | C03C23/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1.制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括用磨料粒抛光玻璃基底，然后用0.02-0.3％的氢氟酸水溶液洗涤该基底。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||