| 发明名称 | 在等离子反应器中用以限制等离子以及降低流量阻值的装置与方法 | ||
| 摘要 | 一种装置设计用来限制等离子在等离子制程腔体中的一处理区域。在一实施例中，此装置包括一环(Ring)具有一挡板界定多数个狭长孔与多数个指状物。每一狭长孔具有一宽度小于在处理区域中的等离子鞘(Plasma Sheath)的厚度。 | ||
| 申请公布号 | CN1324648C | 申请公布日期 | 2007.07.04 |
| 申请号 | CN200410033898.9 | 申请日期 | 2004.04.19 |
| 申请人 | 应用材料有限公司 | 发明人 | 卡罗尔·贝拉;叶扬;詹姆斯·D·卡杜斯;丹尼尔·J·赫夫曼;史帝文·C·夏农;道格拉斯·A·布区伯格二世 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/302(2006.01);C23C16/00(2006.01);H05H1/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 权利要求书1.一种装置，设置用以限制等离子在一等离子制程腔体中的一处理区域，包括一环配置在一基底支持底座与腔体之间，该环具有一档板，界定多数个狭长孔与多数个指状物，其中每一指状物在剖面侧视具有一个大致上为倒T的形状。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||