| 发明名称 | 中孔性的二氧化硅及其制备方法和用途 | ||
| 摘要 | 本发明提供亲水性强的中孔性的二氧化硅及使用廉价的原料在温和条件下制备中孔性的二氧化硅的方法，并提供吸收性强且防水性、耐光性优越的油墨吸收剂及记录纸。即，本发明涉及(1)中孔性的二氧化硅，其特征在于中孔范围的平均细孔直径为1.5-10nm，BET法氮吸附比表面积为500-1400m<SUP>2</SUP>/g，25℃水单分子吸附量在1.7g/nm<SUP>2</SUP>以上；(2)中孔性的二氧化硅的制备方法，其特征在于从混合活性二氧化硅和中性模型而制备的复合体中除去模型；(3)油墨吸收剂，其特征在于含有中孔性的二氧化硅；(4)由上述油墨吸收剂和一种溶剂制备的油墨吸收剂浆料；(5)记录纸，其特征是含有上述油墨吸收剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1323943C | 申请公布日期 | 2007.07.04 |
| 申请号 | CN98811358.9 | 申请日期 | 1998.11.19 |
| 申请人 | 旭化成株式会社 | 发明人 | 佐藤静司;清水正 |
| 分类号 | C01B37/02(2006.01);B41M5/00(2006.01) | 主分类号 | C01B37/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 樊卫民;杨青 |
| 主权项 | 权利要求书1.一种中孔性的二氧化硅的制备方法，其特征在于依次进行混合活性二氧化硅和中性模型，制备二氧化硅和中性模型的复合体的步骤；以及通过使所述复合体与溶剂接触而从所述复合体中除去模型的除去步骤；其中所述的中性模型选自：下列结构式(1)的胺，RNH2 (1)R表示碳数为8-20的烷基；下列结构式(2)的非离子表面活性剂，R(OCH2CH2)nOH (2)R表示碳数为12-20的烷基，n为2-30；和下列结构式(3)的胺氧化物，R(CH3)2NO (3)R表示碳数为8-20的烷基。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||