形成沟槽的方法

摘要

提供一种形成沟槽的方法，能够圆化顶角而不需要增加单独的掩模和工艺。在该方法中，在具有隔离区和有源区的衬底上依次堆叠第一和第二隔离层。随后，在该第二隔离层上形成光致抗蚀剂图案，并且利用该光致抗蚀剂图案作为掩模，依次将该第二衬垫隔离层和该第一衬垫隔离层图案化，以暴露隔离区中的一部分衬底。之后，利用所述第一和第二衬垫隔离层作为掩模，蚀刻该衬底，以形成STI区，使得STI区的上部宽度大于STI区的下部宽度。

主权项

1.一种形成沟槽的方法，该方法包括：在具有隔离区和有源区的衬底上依次堆叠第一隔离层和第二隔离层；在所述第二隔离层上形成光致抗蚀剂图案；利用所述光致抗蚀剂图案作为掩模，依次将所述第二衬垫隔离层和所述第一衬垫隔离层图案化，以暴露出所述隔离区中的一部分所述衬底；以及利用所述第一和第二衬垫隔离层作为掩模，蚀刻所述衬底，以形成沟槽，使得所述沟槽的上部宽度大于所述沟槽的下部宽度。