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发明名称
使用透明基板制造多晶矽膜的方法及装置
摘要
提供使用透明基板制造多晶矽膜的方法及装置。该方法包含:在该透明基板之一表面上形成一光吸收层;以及,使用快速热处理(RTP)光源的辐射加热该光吸收层,同时沉积该多晶矽膜于该光吸收层上。
申请公布号
TW200725704
申请公布日期
2007.07.01
申请号
TW095143126
申请日期
2006.11.22
申请人
波音特工程股份有限公司
发明人
安范模
分类号
H01L21/205(2006.01)
主分类号
H01L21/205(2006.01)
代理机构
代理人
王盛发
主权项
地址
韩国
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