| 主权项 |
1.一种全方位调整之多轴砂光装置,其基座设有输 送之台面,以及于台面上方另外设有主砂光单元; 主砂光单元系于一壳罩内组设有砂布丝轮,壳罩背 面则设有可连动砂布丝轮之主轴马达,此壳罩系藉 旋座而组设于一升降座上,该基座纵向设有供升降 座滑合之升降轨,以及供升降座螺合之纵向螺杆, 其螺杆系枢固于基座,以便藉由转动螺杆带动升降 座沿升降轨限制而上下位移,用以调整砂布丝轮升 降; 旋座、升降座系以枢轴横向贯穿枢接,使旋座能以 枢轴为中心而上下转动,其旋座以枢轴为中心设有 调整槽,此调整槽系供螺栓穿掣而锁设于升降座之 螺孔,俾藉由螺栓之松紧而控制旋座、升降座间之 锁固关系,以调整砂布丝轮于台面上之倾仰角度。 2.如申请专利范围第1项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其基座台面以间隔并排之导轮而组成,各 导轮于一端则对应的设有链轮,然后基座于最前端 导轮下方则设有减速机以及带动减速机旋转之传 动马达,其减速机于输出端亦对应的设有链轮,然 后于各链轮外周则圈绕有链条。 3.如申请专利范围第2项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其基座在链条位于前端导轮下方转角处设 有一调整件,此调整件亦枢设有链轮,用以抵接于 链条该转角内侧,调整件另贯设有长槽体,提供螺 件锁设于基座。 4.如申请专利范围第1项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其基座设有一机柱,机柱具有一开口朝向 壳罩之固定架,此固定架设有供升降座滑合之升降 轨,以及供升降座螺合之螺杆,其螺杆系枢固于固 定架,顶端则按装有把手轮。 5.如申请专利范围第1项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其旋座、升降座则对应的以耳部对接,并 以枢轴横向贯穿耳部,其旋座并向升降座方向延设 有一突臂,此突臂以枢轴为中心设有弧形调整槽, 此调整槽系供螺栓穿掣而锁设于升降座螺孔。 6.如申请专利范围第1项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其基座在台面顺序设置有主砂光单元、左 侧砂光单元、辅助砂光单元及右侧砂光单元。 7.如申请专利范围第6项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其基座位于台面左侧位置则设有锁座,用 以供左侧砂光单元按装,此锁座系设有组装槽,用 以供锁件穿掣而螺固有马达座,此马达座上设有马 达,马达顶端则组设有轴心竖设之左砂布丝轮。 8.如申请专利范围第6项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其基座于台面上方位置则设有一辅助砂光 单元,该辅助砂光单元系于台面、右侧竖设有一纵 轨,此纵轨滑合有一可上下位移之滑座,以及于纵 轨顶端设有突座,然后以一螺轴枢固于突座,此螺 轴则螺合于滑座,而滑座则水平滑合有一移动轴, 此移动轴外端则向上延设有支座,用以提供第二螺 轴水平枢固,第二螺轴系螺合于滑座;其移动轴末 端则设有一固定座,用以供马达座组设,此马达座 设有弧槽,用以供锁栓穿掣而螺固于固定座,马达 座上设有马达,马达顶端则组设有轴心竖设之辅助 砂布丝轮。 9.如申请专利范围第6项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其基座位于台面右侧下方位置则设有一右 侧砂光单元,系于基座右侧设有轴座,用以提供一 立轨固置,立轨滑合有一可上下位移之导座、底端 则设有凸块,然后以一导螺杆枢固于凸块,此导螺 杆则螺合于导座;导座水平滑合有水平轴,水平轴 上滑合有一调整座,且水平轴外端则向下延设有螺 座,用以提供螺件水平枢固,而螺件系螺合于调整 座;调整座则组设有马达座,用以供马达按装,此马 达座设有弧槽,用以供锁栓穿掣而螺固于调整座, 马达顶端则组设有轴心竖设之右侧砂布丝轮。 10.如申请专利范围第1项所述全方位调整之多轴砂 光装置,其在台面对称主砂光单元的下方设有底砂 光单元。 11.如申请专利范围第10项所述全方位调整之多轴 砂光装置,其底砂光单元系于一吸尘罩内设置有底 砂布丝轮,而吸尘罩两侧则分别锁设有马达座,此 两马达座则设有能带动底砂布丝轮之马达,基座在 相对马达座的位置则竖设有撑柱,此撑柱则设有供 马达座上下滑合之滑杆、供马达座螺合之螺杆,以 便藉由转动螺杆而带动底砂布丝轮升降。 图式简单说明: 第一图:系木条之不同形状示意图。 第二图:系本创作组合之立体示意图。 第三图:系本创作主砂光单元之背视示意图。 第四图:系本创作主砂光单元之侧视示意图。 第五图:系第四图A-A位置俯视示意图。 第六图:系本创作主砂单元倾仰角度调整示意图。 第七图:系本创作左侧砂光单元之背视示意图。 第八图:系本创作辅助及右侧砂光单元另方向立体 示意图。 第九图:系本创作右侧砂光单元之局部立体示意图 。 第十图:系本创作辅助砂光单元之局部立体示意图 。 第十一图:系本创作第二实施例立体示意图。 第十二图:系本创作第二实施例背视示意图。 第十三图:系本创作第二实施例局部立体示意图。 第十四图:系本创作第二实施例之升降调整示意图 。 |
