发明名称 单晶硅的制造方法及单晶硅以及硅晶片
摘要 本发明涉及一种利用不进行达斯颈部法的柴可劳斯基法而进行的单晶硅的制造方法,利用前端部的角度为28°以下的前端尖或者去掉尖前端的形状的晶种,在使上述晶种的前端部接触硅熔液之前,使其停止在硅熔液的正上方并予以加温,之后,使上述晶种的前端部接触硅熔液,沉入硅熔液直至成为期望直径为止,之后,转为拉升而进行单晶的拉升时,至少在使上述晶种的前端部接触硅熔液而转为拉升的期间,使硅熔液表面的温度变动保持在±5℃以内。由此,在不使用达斯颈部法而利用柴可劳斯基法来育成单晶硅的方法中,可以提高以无位错育成单晶的成功率的同时,即使是结晶方向为(110)的单晶硅的育成,也可以育成固定直径部直径超过200mm的大直径高重量的单晶硅。
申请公布号 CN1323196C 申请公布日期 2007.06.27
申请号 CN03808958.0 申请日期 2003.04.23
申请人 信越半导体株式会社 发明人 布施川泉;大国祯之;三田村伸晃;太田友彦;胜冈信生
分类号 C30B29/06(2006.01);C30B15/36(2006.01) 主分类号 C30B29/06(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 黄剑锋
主权项 1、一种单晶硅的制造方法,利用不进行达斯颈部法的柴可劳斯基法进行,其特征在于:利用前端部的角度为小于等于28°的前端尖或者去掉尖前端的形状的晶种,在使上述晶种的前端部接触硅熔液之前,使其停止在硅熔液的正上方而予以加温,之后,使上述晶种的前端部接触硅熔液,沉入硅熔液中直至期望直径为止,然后转为拉升以进行单晶的拉升的情况下,至少在使上述晶种的前端部接触硅熔液而转为拉升的期间,使硅熔液表面的温度变动保持在±5℃以内;使上述晶种的前端部接触硅熔液时的硅熔液的温度成为比在利用达斯颈部法的单晶硅的制造方法中适合于使晶种接触硅熔液的温度还高10~20℃的硅熔液温度,使晶种接触硅熔液并沉入,至少在停止上述晶种的下降而转为拉升后开始至形成在晶种下方的结晶直径开始扩大的期间的减径部的形成中,将拉升速度设成小于等于0.5mm/min,以拉升单晶。
地址 日本东京都