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发明名称 Processes for selective masking of III-N layers and for the preparation of free-standing III-N layers or of devices
摘要
申请公布号 EP1801855(A1) 申请公布日期 2007.06.27
申请号 EP20060024627 申请日期 2006.11.28
申请人 FREIBERGER COMPOUND MATERIALS GMBH 发明人 HABEL, FRANK;SCHOLZ, FERDINAND;NEUBERT, BARBARA;BRUECKNER, PETER;WUNDERER, THOMAS
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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