发明名称 |
IC芯片及其制造方法 |
摘要 |
本发明的目标是降低IC芯片的单位成本,并实现IC芯片的大量生产。按照本发明,使用尺寸上没有限制的衬底(例如玻璃衬底)取代硅衬底。这实现了IC芯片的大量生产以及单位成本的降低。此外,通过研磨和抛光衬底(例如玻璃衬底)提供了薄的IC芯片。 |
申请公布号 |
CN1985353A |
申请公布日期 |
2007.06.20 |
申请号 |
CN200580023217.3 |
申请日期 |
2005.07.06 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
鹤目卓也;大力浩二;楠本直人 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L27/13(2006.01);H01L29/786(2006.01);H01L21/301(2006.01);H01L21/304(2006.01);H01L21/822(2006.01);G06K19/07(2006.01);H01L27/04(2006.01);G06K19/077(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
张浩 |
主权项 |
1.一种制造IC芯片的方法,包括:在衬底的第一绝缘表面上形成含有绝缘层、多个元件和导电层的薄膜集成电路;在所述薄膜集成电路上提供第一膜;在第一膜上提供第二膜;研磨所述衬底的第二绝缘表面;切割所述衬底、绝缘膜(层)和第一膜,以便形成多个其中堆叠了所述衬底、薄膜集成电路和第一膜的IC芯片。 |
地址 |
日本神奈川 |