曝光条件的决定方法、曝光方法及装置、组件制造方法

摘要

在基板曝光之前，在液体的各种条件下投影图案像，根据图案像的各投影状态，决定将图案像投影于基板上时的曝光条件。透过液体来投影图案像时，在按照液体状态的期望投影状态下能良好地将基板曝光。

主权项

1、一种曝光条件的决定方法，该曝光条件用于透过投影光学系统及液体将图案像投影于基板上从而曝光该基板时，该决定方法的特征在于包含以下步骤：在曝光该基板之前，在该液体的多个条件下，透过该投影光学系统依序投影图案像；及根据该图案像的投影状态，来决定把图案像投影于该基板上时的曝光条件。