低温溅镀高阻値ITO导电透明基材构造及制造方法

摘要

一种低温溅镀高阻值ITO导电透明基材构造及制造方法，具有易于设置及易于大量生产线施行之优点。可以镀多层膜于基材之构造，而在光电产业之高阻值ITO导电层面板材料上量产，而且较知之金属氧化物高阻值ITO导电层触控面板之量产方法为优良。主要系利用一层ITO混合金属氧化物层，再配合多层交叠镀层以形成高透光特性，然后经排定连续式生产的流程，并且组合传统溅镀生产机台，再配合加热及回火使高阻值层稳定化，而达成高稳定阻值与高穿透率之效果。