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发明名称
用来移除乾式蚀刻残余物之剥除液组成物及其剥除方法
摘要
一种剥除液组成物及使用该剥除液组成物之剥除方法,以剥除一半导体或平面显示器用之一基板上之一光阻膜。更特别地,本发明系提供一剥除液组成物及使用该剥除液组成物之剥除方法,以剥除在形成一图案后仍残留之光阻膜及在乾式蚀刻后所改造之聚合的蚀刻残余物。
申请公布号
TW200722939
申请公布日期
2007.06.16
申请号
TW095138727
申请日期
2006.10.20
申请人
三星电子股份有限公司;东友FINE-CHEM股份有限公司
发明人
金炳默;洪宪杓;崔渊琇;金善庆;崔浩根;郑培铉
分类号
G03F7/42(2006.01)
主分类号
G03F7/42(2006.01)
代理机构
代理人
王云平
主权项
地址
韩国
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