发明名称 光阻组合物及使用彼制造薄膜电晶体基材之方法
摘要 一种光阻组合物,其包括约100重量份之包括酚醛树脂及丙烯酸树脂之树脂混合物,及约10重量份至约50重量份之重氮磺酸酯。该酚醛树脂之重量平均分子量不少于约30,000。该丙烯酸树脂之重量平均分子量不少于约20,000。该丙烯酸树脂构成该树脂混合物之总重量之约1%至约15%。当加热使用该光阻组合物形成之光阻膜时,该光阻组合物之剖面变化相对较小。因此,残余光阻膜具有均一厚度,且可减少TFT基材中之短路及/或开口缺陷。
申请公布号 TW200722914 申请公布日期 2007.06.16
申请号 TW095140045 申请日期 2006.10.30
申请人 三星电子股份有限公司;AZ电子材料公司 AZ ELECTRONIC MATERIALS (JAPAN) K. K. 日本 发明人 李羲国;全佑奭;郑斗喜;朴廷敏;姜德万;郑时永;崔宰荣
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/027(2006.01);G03F7/022(2006.01);H01L21/8234(2006.01);H01L29/786(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文;林嘉兴
主权项
地址 韩国