| 摘要 |
La présente invention concerne une installation d'alimentation en gaz pour un dépôt de couches barrière dans un récipient.Selon l'invention, on réalise un équilibrage à l'aide d'une nourrice (70) de mise en régime lors des régimes transitoires lorsque l'on passe d'une étape de vide, puis de dépôt d'une couche préparatoire, et enfin, de dépôt d'une couche barrière proprement dite sur un injecteur (44) à l'intérieur d'un récipient (42).
|
