| 发明名称 | 集成电路适用的模块化光学近接校正配置及其方法 | ||
| 摘要 | 一种集成电路制造适用的模块化光学近接校正(OPC)配置及其方法，该方法包括：提供一亮区暗图案(clear field with dark feature)的原始图案。产生一反转(reverse tone)的暗区亮图案(dark field with clear feature)的反转图案。以及将上述亮区暗图案以及暗区亮图案两者加成形成一组合光罩(combination ofthe two mask)。 | ||
| 申请公布号 | CN1320404C | 申请公布日期 | 2007.06.06 |
| 申请号 | CN200310107824.0 | 申请日期 | 2003.10.09 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 洪齐元;张斌 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F1/08(2006.01) |
| 代理机构 | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人 | 谢晋光 |
| 主权项 | 权利要求书1.一种光学近接校正方法，适用于集成电路制造，其特征在于包括：提供一亮区暗图案的原始图案；产生一反转的暗区亮图案的反转图案；以及将上述亮区暗图案以及暗区亮图案两者组合形成一组合光罩。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号 | ||