半导体积体电路装置及其制造方法

摘要

本发明提供一种半导体积体装置及其制造方法。该半导体积体电路包括一包括一第一掺杂剂之半导体基板、一形成于该半导体基板上的第一导电层图案、一形成于该第一导电层图案上的层间介电层、一形成于该层间介电层上的第二导电层图案，及一用以阻挡照射至半导体基板之VUV射线的第一真空紫外光(VUV)阻挡层。