发明名称 | 基板昇降装置及基板处理装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种即使在真空处理装置中,亦不会发生昇降销单方接触,可使基板安定昇降之基板昇降装置及基板处理装置。上推板32的围绕筒体34系中空状且顶部34a具有开口,在该开口插入昇降销基端部9的下部。在上推板32的上面32a配备滚珠轴承35,在与上推板32相对的围绕筒体34的顶部内面34b配备滚珠轴承36。藉由滚珠轴承35抵接在设于昇降销基端部9的凸缘9a下面,且滚珠轴承36抵接在凸缘9a上面的方式,夹住昇降销基端部9的凸缘9a而支撑昇降销8。 | ||
申请公布号 | TW200721359 | 申请公布日期 | 2007.06.01 |
申请号 | TW095127801 | 申请日期 | 2006.07.28 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 伊藤毅 |
分类号 | H01L21/68(2006.01) | 主分类号 | H01L21/68(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |