| 主权项 |
1.一种稀土类烧结磁铁之制造方法,其特征在于对 由R(惟R为Sm或包含50重量%以上Sm之二种以上稀土类 元素)20~30重量%、Fe 10~45重量%、Cu 1~10重量%、Zr 0.5~ 5重量%、余量Co及不可避免的杂质而成之合金,依 序进行熔解、铸造、粉碎、微粉碎、磁场中成形 、烧结、老化使成烧结磁铁,再者对该烧结磁铁进 行裁断及/或研磨进行表面加工后,施以金属电镀, 其后在80~ 850℃进行10分钟~50小时热处理而成者。 2.如申请专利范围第1项之稀土类烧结磁铁之制造 方法,其中金属电镀之金属系Cu、Ni、Co、Sn及该等 合金之至少一种。 3.如申请专利范围第1或2项之稀土类烧结磁铁之制 造方法,其中该热处理系在氧分压10-4Pa~50kPa之氩、 氮或低压真空环境下进行。 4.一种稀土类烧结磁铁,其特征在于由R(惟R为Sm或 包含50重量%以上Sm之二种以上稀土类元素)20~30重 量%、Fe 10~45重量%、Cu 1 ~10重量%、Zr 0.5~5重量%、余 量Co及不可避免的杂质而成之稀土类烧结磁铁中, 于该稀土类烧结磁铁之表面上,系直接或透过金属 电镀层具有金属氧化物层及/或金属氮化物层。 5.如申请专利范围第4项之稀土类烧结磁铁,其中金 属电镀层与金属氧化物层及/或金属氮化物层之合 计厚度为1 m以上100 m以下,且金属氧化物层及/ 或金属氮化物层之厚度为0.1 m以上100 m以下。 6.如申请专利范围第4或5项之稀土类烧结磁铁,其 中金属电镀之金属系Cu、Ni、Co、Sn及该等合金之 至少一种。 7.一种可提高耐氢脆性之稀土类烧结磁铁之制造 方法,其特征在于对由R(惟R为选自Nd、Pr、Dy、Tb及 Ho之一种或二种以上的稀土类元素)20~35重量%、Co 15重量%以下、B0 .2~8重量%、8重量%以下之选自Ni、 Nb、Al、Ti、Zr、Cr、V、Mn、Mo、Si、Sn、Ga、Cu及Zn的 至少一种元素作为添加物,余量Fe及不可避免的杂 质而成之合金,依序进行熔解、铸造、粉碎、微粉 碎、磁场中成形、烧结、热处理,使成烧结磁铁, 再对该烧结磁铁进行裁断及/或研磨并进行表面加 工后,施以金属电镀,其后在80~700℃进行10分钟~50小 时热处理,其中金属电镀之金属系Cu、Ni、Co、Sn及 该等合金之至少一种,而热处理系在氧分压10-4 Pa~ 50kPa之氩、氮或低压真空环境下进行者。 8.一种可提高耐氢脆性之稀土类烧结磁铁,其特征 在由R(惟R为选自Nd、Pr、Dy、Tb及Ho的一种或二种以 上的稀土类元素)20~35重量%、Co 15重量%以下、B 0.2~ 8重量%、8重量%以下之选自Ni、Nb、Al、Ti、Zr、Cr、 V、Mn、Mo、Si、Sn、Ga、Cu及Zn的至少一种元素作为 添加物,余量Fe及不可避免的杂质而成之稀土类烧 结磁铁中,于该稀土类烧结磁铁之表面上,系具有 直接或透过n层(n为整数且n≧1)之金属电镀层并具 有金属氧化物层及/或金属氮化物层。 9.如申请专利范围第8项之稀土类烧结磁铁,其中金 属电镀层与金属氧化物层及/或金属氮化物层之合 计厚度为1 m以上100 m以下,且金属氧化物层及/ 或金属氮化物层之厚度为0.1 m以上100 m以下。 10.如申请专利范围第8或9项之稀土类烧结磁铁,其 中金属电镀之金属系Cu、Ni、Co、Sn及该等合金之 至少一种。 图式简单说明: 第1图系于实施例3之稀土类烧结磁铁经被覆Ni镀层 12m后,在600℃,24小时空气中,施以热处理的磁铁 之表面附近的扫瞄电子显微镜而得之反射电子像 照相。 第2图系于实施例6之稀土类烧结磁铁经被覆Ni镀层 12m后,在500℃,2小时空气中施以热处理的磁铁之 表面附近的扫瞄电子显微镜而得之反射电子像照 相。 第3图系于比较例8之稀土类烧结磁铁经被覆Ni镀层 12m的磁铁之表面附近的扫瞄型电子显微镜而得 之反射电子像照相。 |
