首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
MASK FOR ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号
KR20070055246(A)
申请公布日期
2007.05.30
申请号
KR20050113734
申请日期
2005.11.25
申请人
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人
KIM, MUN SIK
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
矮吧椅(ART218-镂花背软包)
沙发椅（SK-2016015）
单肩包
家具接头（奥斯系列）
凳子（8943-8944）
沙发（贵妃-FS219#）
无纺布（小珍珠热风压纹无纺布）
沙发（B1608）
靠枕(LY321C-6)
沙发（887）
按摩床垫
零钱包（房子硅胶）
Traffic Offloading Method, Apparatus, and System
Enabling Load Balancing in a Network Virtualization Overlay Architecture
VIRTUAL NETWORK DEVICE ARCHITECTURE
CONTROL DEVICE DISCOVERY IN NETWORKS HAVING SEPARATE CONTROL AND FORWARDING DEVICES
Efficient High-Radix Networks for Large Scale Computer Systems
SYSTEM
NETWORK RESOURCE MANAGEMENT WITH PREDICTION
MINIMIZED INSTALLATION OF POINT OF PRESENCE SOFTWARE AGENTS BY USE OF PRE-INSTALLED BROWSER
