首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 REWORK PROCESS FOR PHOTORESIST FILM
摘要
申请公布号 KR20070053621(A) 申请公布日期 2007.05.25
申请号 KR20060114275 申请日期 2006.11.20
申请人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 发明人 OGIHARA TSUTOMU;UEDA TAKAFUMI
分类号 G03F7/11;G03F7/00;G03F7/26;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com