| 主权项 |
1.一种辐射感应聚合物,其包含(i)多数个被叠氮化 物所 取代之芳香族酯基,其系衍生自被接氮化物取代之 N-苯基 邻氨基苯酸,或者有下式之酸N3-R-(CR3=CR4)a-(CR5-CR6 )b-COOH其中a及b为零或1,且至少有个为1;R代表一种 芳 基;而R3,R4,R5及R6,其可相同或相异,代表卤原子, 氢原子,氰基,含有至多6碳原子之烷基;苯基或 基, 含有至多6碳原子之烷氧基;苯氧基或 氧基,以苯基 或 基及至多3碳原子之烷基形成之芳烷基,或以苯基 或基 及至多3个碳原子之烷基形成之芳烷氧基,其中R3至 R6至 少有一个代表卤原子或氰基,和(ii)多数个可赋予 该化合 物在水性或 性介质中的溶解度之基,该赋予溶解 度之基 为藉酯基与该聚合物键结之羧酸基或藉酯基或如 下式之基 接于形成该聚合物中枢部份之碳原子,其中X为A为 足够形 成六元环或十元融合系统之碳原子所构成之一部 份,而R1 及R2为H或含有至多六碳原子之烷基,而其中R1及R2 之至 少其一之一为氢,以与该聚合物键结之磺酸基。2. 一种制造辐射感应聚合物之方法,其包含有提供一 种含 多数个羟基及随意之环氧基的聚合物;令一种被叠 氮化物 取代之芳香族羧酸,或其成酯之衍生物与部份该羟 基及/ 或部份该环氧基反应,如果该环氧基存在的话;以 及令一 种环羧环酐或环磺基羧酸酐与部份该剩余之羟基 反应,以 将性溶性或水溶性之基引入该化合物。3.依据申 请专利范围第2项所述之方法,其中该环酐之酸 酐基与该有部份剩余之羟基反应。4.依据申请专 利范围第3项所述之方法,其中该酸酐为2- 磺基苯酸环酐,马来酸酐, 酐琥珀酸酐或3-氧杂-戊 二 酸酐。5.依据申请专利范围第2项所述之方法,其中 该环酐更包 含有酐基以外之官能团,与该有若干剩余之羟基反 应。6.依据申请专利范围第5项所述之方法,其中该 环酐为偏 苯三甲酸酐氯化物,3-异氰酸基 酐;4-异氰酸基 酸 酐 ;或为山梨酸及马来酸酐之狄尔斯-阿尔德(Diels- Alder) 反应产物。7.一种辐射感应板,其包含有一种基材, 该基材涂上一种 组成物,该组成物包含一能有效地使该组成物对辐 射产生 感应之量的如申请专利范围第1项所述之辐射感应 聚合物 |
