发明名称 | 具有双金属层光栅的偏光组件及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种具有双金属层光栅的偏光组件,适用于可见光谱。多条平行的介电层,具有一周期(p),形成于一透明基底上,其中相邻的介电层之间具有一沟槽。一第一金属层,具有一第一厚度(d1)而形成于该沟槽中。一第二金属层,具有一第二厚度(d2)与一宽度(w)而形成于介电层上,其中第一金属层与第二金属层之间具有一垂直距离(1)而互不相连。周期(p)的范围为10~250nm。第一、二厚度(d1、d2)的范围为30~150nm,且第一厚度(d1)等于第二厚度(d2)。垂直距离(1)的范围为10~100nm。宽度(w)/周期(p)的比例范围为25~75%。本发明还公开了一种具有双金属层光栅的偏光组件的制造方法。 | ||
申请公布号 | CN1316265C | 申请公布日期 | 2007.05.16 |
申请号 | CN200310120495.3 | 申请日期 | 2003.12.16 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 丘至和;郭惠隆;刘怡君;陈品诚 |
分类号 | G02B5/30(2006.01) | 主分类号 | G02B5/30(2006.01) |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 经志强;潘培坤 |
主权项 | 1.一种具有双金属层光栅的偏光组件,包括:一透明基底;多条平行的介电层,具有一周期(p)而形成于所述透明基底上,其中相邻的所述多条介电层之间具有一沟槽;一第一金属层,具有一第一厚度(d1)而形成于所述沟槽中;以及一第二金属层,具有一第二厚度(d2)与一宽度(w)而形成于所述多条介电层上,其中所述第一金属层与所述第二金属层之间具有一垂直距离(1)而互不相连;其中,所述周期(p)小于等于250nm;其中,所述第一厚度(d1)与所述第二厚度(d2)都小于等于150nm,且所述第一厚度(d1)等于所述第二厚度(d2);其中,所述垂直距离(1)小于等于100nm;其中,所述宽度(w)/所述周期(p)的比例为25~75%。 | ||
地址 | 台湾省新竹县 |