发明名称 具有双金属层光栅的偏光组件及其制造方法
摘要 本发明提供一种具有双金属层光栅的偏光组件,适用于可见光谱。多条平行的介电层,具有一周期(p),形成于一透明基底上,其中相邻的介电层之间具有一沟槽。一第一金属层,具有一第一厚度(d1)而形成于该沟槽中。一第二金属层,具有一第二厚度(d2)与一宽度(w)而形成于介电层上,其中第一金属层与第二金属层之间具有一垂直距离(1)而互不相连。周期(p)的范围为10~250nm。第一、二厚度(d1、d2)的范围为30~150nm,且第一厚度(d1)等于第二厚度(d2)。垂直距离(1)的范围为10~100nm。宽度(w)/周期(p)的比例范围为25~75%。本发明还公开了一种具有双金属层光栅的偏光组件的制造方法。
申请公布号 CN1316265C 申请公布日期 2007.05.16
申请号 CN200310120495.3 申请日期 2003.12.16
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 丘至和;郭惠隆;刘怡君;陈品诚
分类号 G02B5/30(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 经志强;潘培坤
主权项 1.一种具有双金属层光栅的偏光组件,包括:一透明基底;多条平行的介电层,具有一周期(p)而形成于所述透明基底上,其中相邻的所述多条介电层之间具有一沟槽;一第一金属层,具有一第一厚度(d1)而形成于所述沟槽中;以及一第二金属层,具有一第二厚度(d2)与一宽度(w)而形成于所述多条介电层上,其中所述第一金属层与所述第二金属层之间具有一垂直距离(1)而互不相连;其中,所述周期(p)小于等于250nm;其中,所述第一厚度(d1)与所述第二厚度(d2)都小于等于150nm,且所述第一厚度(d1)等于所述第二厚度(d2);其中,所述垂直距离(1)小于等于100nm;其中,所述宽度(w)/所述周期(p)的比例为25~75%。
地址 台湾省新竹县