具有高光催化活性的多孔TiO<SUB>2</SUB>薄膜的制备方法

摘要

本发明公开的具有高光催化活性的多孔TiO₂薄膜的制备方法，步骤如下：将玻璃基板清洗后，置于石英平板上，一起放入等离子体化学气相沉积装置反应室的上下电极板之间；先向反应室通入氦气和氮气的混合气体，用产生的等离子体对加热至400～500℃的玻璃基板进行刻蚀处理；再通入以氮气为载气的TiCl₄反应气体，流量为0.10－0.15m³/h，利用常压等离子体增强化学气相沉积法制备TiO₂薄膜。本发明方法制得的TiO₂薄膜为多孔状，其比表面积大、表面羟基含量高，光催化活性比通常CVD制备的TiO₂薄膜可提高1倍左右；可以实现大面积快速制备多孔TiO₂薄膜，且成膜均匀、工艺稳定、适合于工业化规模生产。

主权项

1.具有高光催化活性的多孔TiO2薄膜的制备方法，其特征在于步骤如下：1)将玻璃基板清洗后，置于石英平板上，一起放入等离子体化学气相沉积装置反应室的上、下电极板之间；2)向反应室通入氦气和氮气的混合气体，流量比为He∶N2＝2～5∶5，控制反应室的气压为一个大气压，开启等离子体激发脉冲电源，电压为1～5kV，10～20分钟后加热基板温度至400～500℃，利用产生的等离子体对玻璃基板进行刻蚀处理；3)通入以氮气为载气的TiCl4反应气体，流量为0.10-0.15m3/h，调整等离子体激发脉冲电源电压为10～20kV，沉积TiO2薄膜。