发明名称 覆晶堆叠构造
摘要 一种覆晶堆叠构造,其主要包含一第一晶片、一第二晶片、一基板及一导线架。该第一晶片黏贴于该基板上表面形成一支撑部并以打线方式进行电性连接,以数个锡球连接于该基板之布局。该第二晶片以翻面晶片方式置于该基板下表面,以数个锡球电性连接于该基板之布局。因此,该第一晶片、第二晶片及基板形成厚度较薄的一堆叠体。该基板两侧黏贴于该导线架之内接脚上并以打线方式电性连接,使该基板置于该导线架内以形成一半导体元件,而一封胶体则包覆于该半导体元件。
申请公布号 TW420381 申请公布日期 2001.01.21
申请号 TW088217933 申请日期 1999.10.20
申请人 南茂科技股份有限公司 发明人 蔡方正;鲁明朕
分类号 H01L23/28 主分类号 H01L23/28
代理机构 代理人 陈启舜 高雄巿苓雅区中正一路二八四号十二楼
主权项 1.一种覆晶堆叠构造,其包含:一第一晶片;一基板,其至少二侧边缘设有接脚,该第一晶片以打线方式电性连接于该基板一表面;一第二晶片,其以覆晶方式固定于该基板另一表面,进而形成一堆叠体,该基板至少有二侧边缘凸出于该堆叠体;一导线架,其包含向内延设之数个内接脚及数个外接脚,该数个内接脚结合固定及电性连接于基板;及一封胶体,其包覆于该堆叠体,使该导线架之外接脚外露于该封胶体;因而该第一晶片及第二晶片共同经该基板及导线架之接脚连接外界。2.依申请专利范围第1项之覆晶堆叠构造,其中该基板采用BT材料基板以制造降低成本。3.依申请专利范围第1项之覆晶堆叠构造,其中该第一晶片及第二晶片在该基板上的位置相互对应。4.一种覆晶堆叠构造,其包含:数个第一晶片;一基板,其至少二侧边缘设有接脚,该第一晶片以打线方式电性连接于该基板一表面;数个第二晶片,其以覆晶方式固定于该基板另一表面,进而形成一堆叠体,该基板至少有二侧边缘凸出于该堆叠体;一导线架,其包含向内延设之数个内接脚及数个外接脚,该数个内接脚结合固定及电性连接于基板;及一封胶体,其包覆于该堆叠体,使该导线架之外接脚外露于该封胶体;因而该数个第一晶片及数个第二晶片共同经该基板及导线架之接脚连接外界。5.依申请专利范围第4项之覆晶堆叠构造,其中该基板采用BT材料基板以制造降低成本。6.依申请专利范围第4项之覆晶堆叠构造,其中该数个第一晶片及数个第二晶片在该基板上的位置相互对应。7.依申请专利范围第4项之覆晶堆叠构造,其中该数个第一晶片相互并列设置。8.依申请专利范围第4项之覆晶堆叠构造,其中该数个第二晶片相互并列设置。图式简单说明:第一图:习用美国专利第5,861,668号半导体堆叠构造示意图;第二图:本创作第一较佳实施例之半导体元件上视图;第三图:本创作第二图沿3-3之剖面图;第四图:本创作第二较佳实施例之半导体元件上视图;及第五图:本创作第四图沿5-5之剖面图。
地址 新竹科学工业园区新竹县研发一路一号